Mike
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Intel hat einen neuen Computer-Chip mit der doppelten Leistung heutiger Pentium-4-Chips für das kommende Jahr angekündigt. Trotz des neuartigen Herstellungsverfahrens sollen die Chips bereits 2003 in Massenfertigung hergestellt werden, teilte der Chiphersteller mit. Der erste für Endkunden verfügbare Chip soll ein Prozessor mit dem Codenamen "Prescott" sein. Für die Herstellung erwartet Intel nur geringe Umstellungskosten, da rund 75 Prozent der bisherigen Prozesswerkzeuge weiter verwendet werden könnten.
Neue Rekordwerte erwartet
Die einzelnen Transistoren, die Bausteine der Prozessoren, sollen in Größe, Wärmeentwicklung und Leistung neue Rekordwerte erzielen. Aus einem so genannten Wafer, dem Grundmaterial für die Halbleiterherstellung, werden künftig insgesamt 120 statt bisher 60 Milliarden Transistoren hergestellt, sagte Mark Bohr, Technik-Chef bei Intel. Das Grundmaterial der neuen Transistoren besteht aus chemisch gestrecktem Silizium. Dessen größere Atomabstände ermöglichen eine schnellere Bewegung der Elektronen und damit eine größere Rechengeschwindigkeit. Die Transistoren haben Trennschichten, die nur noch fünf Atomschichten (1,2 Nanometer) dick sind, was ebenfalls die Geschwindigkeit steigert.
Herstellung bewegt sich im atomaren Bereich.
Seit Jahren arbeiten die Chipforscher daran, immer mehr Transistoren auf kleinste Siliziumplättchen aufzubringen und bewegen sich bei der Herstellung längst im atomaren Bereich. Bei einem im Februar vorgestellten Speicherchip hatten Intel-Forscher über 330 Millionen Transitoren auf einer Fläche in der Größe eines Fingernagels aufgebracht. Während derzeit moderne Chips mit Strukturbreiten von 130 Nanometer hergestellt werden, wolle Intel für die neuen Chips die neue 90-Nanometer-Technologie einsetzen - ein Nanometer ist der eine Milliardste Teil eines Meters.
Neue Rekordwerte erwartet
Die einzelnen Transistoren, die Bausteine der Prozessoren, sollen in Größe, Wärmeentwicklung und Leistung neue Rekordwerte erzielen. Aus einem so genannten Wafer, dem Grundmaterial für die Halbleiterherstellung, werden künftig insgesamt 120 statt bisher 60 Milliarden Transistoren hergestellt, sagte Mark Bohr, Technik-Chef bei Intel. Das Grundmaterial der neuen Transistoren besteht aus chemisch gestrecktem Silizium. Dessen größere Atomabstände ermöglichen eine schnellere Bewegung der Elektronen und damit eine größere Rechengeschwindigkeit. Die Transistoren haben Trennschichten, die nur noch fünf Atomschichten (1,2 Nanometer) dick sind, was ebenfalls die Geschwindigkeit steigert.
Herstellung bewegt sich im atomaren Bereich.
Seit Jahren arbeiten die Chipforscher daran, immer mehr Transistoren auf kleinste Siliziumplättchen aufzubringen und bewegen sich bei der Herstellung längst im atomaren Bereich. Bei einem im Februar vorgestellten Speicherchip hatten Intel-Forscher über 330 Millionen Transitoren auf einer Fläche in der Größe eines Fingernagels aufgebracht. Während derzeit moderne Chips mit Strukturbreiten von 130 Nanometer hergestellt werden, wolle Intel für die neuen Chips die neue 90-Nanometer-Technologie einsetzen - ein Nanometer ist der eine Milliardste Teil eines Meters.